در یک کار تحقیقاتی مشترک، دانشمندان موسسه اپتیک غیرخطی و دانشگاه فناوری برلین برای اولین بار با استفاده از لیزر با شدت بالا از نانوذرات منفرد تصویر برداری کردند. پیش از این آنالیز ساختاری اجسام بسیار کوچک با استفاده از پراش با استفاده از XUV و لیزرهای الکترون آزاد X-ray انجام شده بود.
سرپرست این گروه تحقیقاتی، دکتر Daniela Rupp است که پروژه را در دانشگاه برلین آغاز کرده است. نتایج تحقیقات این گروه برای مشخصه‌یابی دقیق خواص شیمیایی، نوری و ساختاری نانوذرات منفرد قابل استفاده است. این نتایج در مجله Nature Communications چاپ شده است. در این تحقیق، محققان از انبساط گاز هلیم از طریق یک نازل که تا دمای بسیار پایینی سرد شده است، استفاده میکنند. گاز هلیم به حالت سوپرسیال تبدیل شده و باریکهای از نانوقطرات منفرد تشکیل میدهد.
در ادامه پالس بسیار کوتاهی از XUV به سمت این قطرات ارسال شده و تصویر آن ضبط میشود. عامل موفقیت در ثبت تصویر، استفاده از پالس با شدت بالای XUV است که در آزمایشگاه لیزر MBI ساخته شده است. نتایج تحقیقات این گروه دسته جدیدی از روش آنالیز ساختار و خواص نوری ذرات کوچک را فراهم ساخته است. با این روش امکان تصویربرداری از ذرات بسیار کوچک منحصر به تجهیزات بسیار بزرگ نیست.
