فرآیند رسوب‌دهی شمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition, CVD) روشی کاربردی برای ایجاد پوشش‌های نازک بر روی زیرلایه‌ها مختلف است. در این روش، پیش‌ماده‌‌ها تبخیر شده و وارد راکتور میشوند. در این راکتور مولکول‌‌های پیش‌ماده جذب سطحی زیرلایه میشوند. معمولا دمای زیرلایه در محدوده خاصی تنظیم می‌شود. مولکول‌‌های جذب شده یا در اثر حرارت تجزیه میشوند و یا با گازها و بخارات دیگر واکنش داده و فیلم جامدی را روی زیرلایه تشکیل می‌دهند. از مزایای این روش می‌توان به لایه نشانی مواد با خلوص بسیار بالا، و نرخ لایه نشانی بالا در مقایسه با روش‌های رسوب‌دهی فیزیکی از فاز بخار (Physical Vapor Deposition, PVD) اشاره کرد. به طور کلی محرک اصلی بازار CVD، رشد جهانی صنعت نیمه‌هادی و افزایش تولید قطعات مورد استفاده در دستگاه‌ها و افزارهای نیمه‌هادی بوده است. در حال حاضر مینیاتوریزه کردن قطعات بزرگترین نیاز صنعت میکروالکترونیک است که با استفاده از روش‌های مختلف لایه نشانی شیمیایی فاز بخار برای ساخت لایه‌های نازک یکنواخت به طور مؤثری قابل حصول است.
افزایش تولید سلول‌های خورشیدی و ماژول‌های مرتبط با آن به دلیل افزایش تعداد نیروگاه‌های خورشیدی در سراسر جهان نیز به طور قابل توجهی به رشد و توسعه‌ی بازار CVD کمک کرده است. از لایه نشانی شیمیایی فاز بخار برای تولید مواد دما بالا مانند سرامیک‌ها، تنگستن و ...، در ساخت سلول‌های خورشیدی، و کامپوزیت‌های دما بالای تقویت شده با الیاف استفاده می‌شود. روش‌های لایه نشانی شیمیایی فاز بخار همچنین در کاربردهایی از قبیل هدفمند کردن سطح، پوشش‌دهی در بسیاری از کاربردهای صنعتی، و سنتز سرامیک‌های پیشرفته مورد استفاده قرار می‌گیرند.
در بین روش‌های مختلف CVD، رسوب‌دهی شیمیایی بخار لایه اتمی (Atomic Layer Chemical Vapor Deposition, ALCVD)، و رسوب‌دهی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) به دلیل ویژگی‌های کارآمد و بازده و خروجی عالی، رشد قابل توجهی داشته‌اند. روش ALCVD به طور گسترده برای دستیابی به پوشش‌های conformal و روش PECVD برای لایه نشانی با نرخ بسیار بالا بر روی سطوح فلزی استفاده می‌شود. برخی از فاکتورهای مهم که در استفاده از روش‌های مختلف CVD توسط مصرف کننده‌ها مد نظر قرار می‌گیرند عبارتند از میزان فراریت پیش‌ماده، سطح، نرخ لایه نشانی، امکان استفاده از پیش‌ماده در یک دمای خاص، و هزینه ماده مصرفی.
رسوب‌دهی شیمیایی بخار به طور گسترده در مناطقی استفاده می‌شود که از صنایع توانمندی در حوزه ساخت الکترونیک و نیمه‌هادی برخوردارند. منطقه آسیا-آرام (Asia-Pacific) شامل آسیای شرقی، آسیای جنوب شرق و اقیانوسیه به دلیل جمعیت زیاد، و عرضه و تقاضای بسیار زیاد برای محصولات الکترونیکی بزرگترین بازار برای لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار را در اختیار دارد. از این گذشته، صنعت الکترونیک رو به رشد در کشورهای هند، تایلند و کره‌جنوبی، منجر به رشد و توسعه‌ی بیشتر بازار CVD در این منطقه شده است.
